首页> 外文OA文献 >Localized Resist Heating Due to Electron-Beam Patterning During Photomask Fabrication

【2h】

Localized Resist Heating Due to Electron-Beam Patterning During Photomask Fabrication

机译：光掩模制造过程中由于电子束图案化引起的局部抗蚀加热

代理获取

本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务，本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文，但由于OA文献来源多样且变更频繁，仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况，如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

页面导航

摘要
著录项
相似文献
相关主题

摘要

Under the supervision of Professors W. Beckman, J. Mitchell, and R. Engelstad; 72pp.

机译：在W. Beckman，J。Mitchell和R. Engelstad教授的指导下； 72页

著录项

作者
Wei, Alexander C.;
展开▼
作者单位

展开▼
年度 2001
总页数
原文格式 PDF
正文语种
中图分类

相似文献

外文文献
中文文献
专利

1. Graph-Based Subfield Scheduling for Electron-Beam Photomask Fabrication [J] . Fang S.-Y., Chen W.-Y., Chang Y.-W. Computer-Aided Design of Integrated Circuits and Systems, IEEE Transactions on . 2013 ,第2期

机译：电子束光掩模制造中基于图的子场调度
2. MicroChannel fabrication via ultraviolet-nanoimprint lithography and electron-beam lithography using an ultraviolet-curable positive-tone electron-beam resist [J] . Microelectronic Engineering . 2020 ,第Apra期

机译：使用紫外线可固化正性电子束光刻胶，通过紫外-纳米压印光刻和电子束光刻进行微通道制造
3. Hyper-thin resist system for photomask-making in double-patterning generation [J] . Masahiro Hashimoto and Hideaki Mitsui Journal of Micro/Nanolithography,MEMS and MOEMS . 2009 ,第2期

机译：用于双图案生成的光掩模制造的超薄抗蚀剂系统
4. Localized resist heating due to electron-beam patterning during photomask fabrication [C] . Alexander C. Wei, William A. Beckman, Roxann L. Engelstad, Annual BACUS symposium on photomask technology;BACUS symposium on photomask technology . 2001

机译：光掩模制造期间由于电子束图案化而导致的局部抗蚀剂加热
5. A Study of Heating and Degradation of Acrylonitrile-Butadiene-Styrene/Polycarbonate Polymer Due to Ultraviolet Lasers Illumination during Localized Pre-Deposition Heating for Fused Filament Fabrication 3D Printing. [D] . Kusel, Scott Daniel. 2017

机译：熔融长丝制造3D打印在局部预沉积加热过程中由于紫外线照射而引起的丙烯腈-丁二烯-苯乙烯/聚碳酸酯聚合物的加热和降解的研究。
6. Trehalose Glycopolymer Resists Allow Direct Writing of Protein Patterns by Electron-Beam Lithography [O] . Erhan Bat, Juneyoung Lee, Uland Y. Lau, -1

机译：海藻糖糖醇抗性可通过电子束光刻直接写入蛋白质图案
7. Characterization of a non-chemically amplified resist for photomask fabrication using a 257 nm optical pattern generator [O] . Benjamen M. Rathsack, Cyrus E. Tabery, Timothy B. Stachowiak, 1999

机译：使用257nm光学图案发生器表征用于光掩模制造的非化学放大抗蚀剂

Localized Resist Heating Due to Electron-Beam Patterning During Photomask Fabrication

摘要

著录项

相似文献

相关主题

期刊订阅